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产品展示
  • Shimadzu衍射光栅

    Shimadzu衍射光栅 光栅槽是通过全息曝光方法形成的,其中应用了双激光束干涉技术。这种全息方法降低了机械刻划光栅中常见的刻槽周期误差,保证了低杂散光光栅的制作。

    型号:
    更新日期:2023-12-21
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  • Edmund新品光栅

    Edmund新品光栅 与刻线式光栅相比,Richardson Gratings™ 高精度反射式全息衍射光栅的光散射更低,使其成为对拉曼光谱仪等杂散光敏感的应用的理想选择。通过暴露于强激光干涉图样,光栅被记录在光刻胶中,然后用化学方法显影以显示具有正弦横截面的条纹图样。可提供从 UV 到 NIR 光谱区域使用的光栅。

    型号:
    更新日期:2024-04-15
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  • 相位掩模版(光栅)

    相位掩模版(光栅)用于制造光纤布拉格光栅,它是控制高性能光学网络中波长选择性和色散补偿的关键组件。相位掩膜板具有广泛的应用,但是比较常见的是,PMT相位掩膜板(光栅)用于记录其他光栅,例如集成光学设备中的平面波导光栅和光纤布拉格光栅(FBG)。FBG是位于光纤芯中的光频率滤波器。

    型号:
    更新日期:2023-12-21
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  • 光纤光栅2

    主要产品有:波长锁定光纤光栅2、DWDM光纤、传感器光纤、长周期光纤、啁啾光纤等。传感器光纤及光纤激光器用光纤均已量产。

    型号:
    更新日期:2023-12-20
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  • 平面全息光栅

    平面全息光栅通常用于对杂散光敏感的应用中。其基底镀有光敏材料,将有光敏材料涂层的基板置于由激光器产生的单色光和相干光束组成的相交光束之间,使光敏材料感光。相交激光束产生一系列平行且等距的干涉条纹,条纹强度按照正弦曲线形状变化。由于光敏材料的溶解度由对其照射的光强决定,干涉条纹显示了光敏材料表面不同光强。然后可以对基底镀反射膜然后用与复制刻划的原始光栅相同的过程用于复制。

    型号:
    更新日期:2023-12-20
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  • 透射光栅2

    透射光栅2光路设计简单,对于使用固定式光栅的应用,优势明显,比如光谱仪。入射光束在光栅背面以固定角度发生色散。对一些类型的光栅准直误差不敏感。为了获得高衍射效率,刻线密度不高。衍射角会随刻线密度的增加而增大,基底材料的折射率限制了长波的透射率,从而导致性能降低。光栅的色散特性使其适用于使用小型探测器阵列的紧凑系统。这种光栅对于偏振也不敏感。

    型号:
    更新日期:2023-12-20
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